بررسی عوامل موثر بر چگالی جریان لایه‌نشانی پوشش‌های ضخیم نورتاب ZnS:Ag به روش الکتروفورزیس جریان مستقیم

نویسنده

گروه نانو مواد و نانو فناوری، موسسه پژوهشی علوم وفناوری رنگ و پوشش

چکیده

در این تحقیق، ماده نورتاب سولفید روی با دوپنت نقره (ZnS:Ag) بر روی شیشه اکسید قلع ایندیم (ITO) به روش الکتروفورزیس جریان مستقیم (DC-EPD) پوشش‌دهی شدند. آزمایش‌ها نشان داد که چگالی جریان عامل مهمی در این لایه‌نشانی می‌باشد و باید در محدوده mA/cm2 0.22-0.11 قرار بگیرد تا علاوه بر جلوگیری از تخریب لایه ITO، پوششی با کیفیت مناسب حاصل شود. سه عامل مهمی که بر چگالی جریان تاثیر داشتند یعنی افزودنی، زمان ماندگاری و نسبت مساحت سطح کاتد به آند مورد بررسی قرار گرفتند. بررسی‌ها نشان داد که در مقایسه با حلال و پودر، افزودنی بیشترین تاثیر را بر چگالی جریان دارد. از طرف دیگر با افزایش زمان ماندگاری، چگالی جریان افزایش یافته و سپس پایدار می‌شود. با کاهش سطح کاتد به آند نیز چگالی جریان و در نتیجه بازده نشست افزایش می‌یابند.

کلیدواژه‌ها


عنوان مقاله [English]

Investigating Parameters Influencing Deposition Current Density of Zns:Ag Thick Films Via Direct Current Electrophoresis

نویسنده [English]

  • A. R. Gardeshzadeh
Department of Nanomaterials and Nanocoatings, Institute for Color Science and Technology
چکیده [English]

In this work, silver-doped zinc sulfide (ZnS:Ag) has been coated on the indium tin oxide (ITO) glass via direct current electrophoretic deposition (DC-EPD). Experiments showed that the current density is the most important parameter during the coating process and it should be in the range of 0.11-0.22 mA/cm2 not only preventing ITO from damaging, but also achieving a high quality coating. Three different parameters most affecting the current density, i.e. the additive, storage time and the cathode to anode ratio have been investigated. Investigations showed that in comparison with the solvent and the powder, additive has the most influence on the deposition current density. The current density also initially increases with the storage time and then becomes rather stable at longer times. Decreasing the cathode to anode ratio increases the current density, hence the deposit yield.

کلیدواژه‌ها [English]

  • Current Density
  • ITO glass
  • Storage time
  • Cathode to anode ratio
  • ZnS:Ag
  • DC electrophoretic deposition